우리 기업의 對 중국 특허분쟁 예방 및 대응능력을 제고하고, 최근 중국의 제3차 전리법 개정에 따른
중국에서의 효과적인 디자인권 확보 전략을 공유하기 위하여 다음과 같이 세미나를 개최합니다.

■ 일 시 : 2009. 11. 25(수), 13:30~18:00

■ 장 소 : 한국지식재산센터 19층 국제회의실(서울 역삼역 4번 출구)

■ 주 최 : 국제지식재산연수원(IIPTI), 中國知識財産培訓中心(CIPTC)

■ 후 원 : 특허청, (사)한국지식재산보호협회, 한국지식재산협의회, 대한변리사회

■ 참석대상 : 중국내 지재권(특허권, 디자인권) 확보에 관심 있는 분(기업)

※ 참가비 무료, 세미나 자료 및 중국지식재산권매뉴얼 제공

■ 진행순서

* 동시통역으로 진행, 발표 50분 및 질의응답 15분

■ 문의처 : 국제지식재산연수원 교육기획과 유병덕 사무관

(Tel : l042-601-4318, 010-5450-6314)

이성재 주무관(601-4317), 김혜영실무관(601-4309)

■ 참가 신청 : http://iipti.kipo.go.kr/etc/iipti_seminar_2009/

■ 한국지식재산센터 약도

* 지하철 : 2호선 역삼역 하차 (4번 출구, 직진 200m), 2호선 강남역 하차 (8번 출구, 직진 300m)